TEMグリッド(SiN, Si, SiOメンブレン)

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SiN LIFT-OUT Grids(Open Half Grids)

加熱・電気バイアス-SiN Lift-Out grid

Si シリコンメンブレンTEMグリッド

5nm, 9nm, 15nmアモルファスSiメンブレン
15nm単結晶 Siメンブレン
ナノポーラス30nm Siメンブレン

SiN 窒化シリコンメンブレンTEMグリッド

5, 10, 20, 50nm SiNメンブレン
マイクロポーラス20, 50nm SiNメンブレン
ナノポーラス20nm SiNメンブレン

SiN 窒化シリコンメンブレンTEMグリッド

20, 30, 50, 75, 100, 150, 200, 500nm
SiNメンブレン & シングルウィンドウ

SiN 窒化シリコンメンブレンTEMスロットグリッド

20, 30, 50, 75, 100, 150, 200, 500nm
SiNメンブレンスロットグリッド

SiO 酸化シリコンメンブレンTEMグリッド

20, 40nm SiOメンブレンTEMグリッド
G-FLAT SiOメンブレンTEMグリッド
マイクロポーラス50nm SiOメンブレン

NanoGrids:官能基化シリコンメンブレンTEMグリッド

親水性、疎水性、正電荷、負電荷、中性電荷表面
15nm窒化シリコンメンブレングリッド
25nm酸化シリコンメンブレングリッド

BioGrids:官能基化シリコンメンブレンTEMグリッド

親水性、疎水性、正電荷、負電荷、中性電荷表面、
リジン結合、プロテインAコート
25nm酸化シリコンメンブレン

SiN マルチフレームアレイ窒化シリコンメンブレングリッド

マルチフレームアレイグリッド
スピンコーティング、蒸着処理

カスタムシリコンメンブレングリッド

特注Si, SiN, SiOメンブレン膜厚
特注ウィンドウサイズ、形状
加熱、電極加工、金属蒸着

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