会社概要
窒化シリコンメンブレンTEMグリッドについて
特 徴
■プラズマクリーニング:カーボングリッドと異なり、有機不純物を取り除き画質向上のために
プラズマクリーニング可能
■均一性の向上:フィールド間のばらつきの低減
■ 耐熱温度> 1000℃:高温で動的プロセスが観察される環境TEMでの使用をサポート
■過酷蒸着および化学的条件に耐える:イメージング解像度および機械的強度の理想的なバランスを提供
■LPCVD、低ストレス(〜250MPa)、非化学量論的窒化シリコンを採用:平坦で絶縁性の疎水性表面を提供
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アプリケーションガイド
| アモルファス シリコン |
多孔ナノ結晶 シリコン |
窒化 シリコン |
酸化 シリコン |
標準 カーボン |
薄膜 カーボン |
|
|---|---|---|---|---|---|---|
| メンブレン | 5, 9, 15nm | 30nm | 5,10, 20, 50nm | 20, 40, 100nm | 20-50nm | 5-10nm |
| イメージ*1 | 優れている | 良い | 有効 | 有効 | 有効 | 良い |
| プラズマ洗浄 | 可 | 可 | 可 | 可 | 不可 | 不可 |
| 物質解析 バックグラウンド |
Si | Si | Si, N | Si, O | C, H | C, H |
| 熱安定性 | ～600℃ | ～600℃ | ～1000℃ | ～1000℃ | ～400℃ | ～400℃ |
| 化学安定性 | 強酸は避ける | 強酸は避ける | 優れている | 有効 | 有効 | 有効 |
| 高ビーム電流*2 | 優れている | 優れている | 有効 | 有効 | 優れている | 優れている |
| コンタミネーション の可能性 |
無 | 無 | 無 | 無 | カーボン | カーボン |
| ナノスケールポア マイクロスケールポア |
無 | 有(ナノポア) | 無 有(ナノ, マイクロポア)*3 |
無 | 無 | 無 |
| バックグラウンド | 無 | ナノ結晶 | 無 | 無 | 無 | 無 |
5nm非多孔/無孔シリコンメンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。
*2 ビーム下の安定性は電子によって打たれたフィルムの劣化の可能性により決定されます。5nm非多孔/無孔シリコン
メンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。純粋なSiは妨げになる結合形成が
ないため最も安定しています。SiO2 とSiNは電子の分子フィルム結合の妨げとフィルム劣化により崩壊されます。
*3 一部のSiN膜製品はナノおよびマイクロポアがあります。
メンブレン強度
1 atm(気圧) = 14.7 PSI
| 窒化シリコン膜厚 | 5 nm | 10 nm | 20nm | 50 nm |
|---|---|---|---|---|
| 9 windows | 11.57±0.66 | 40+ | 40+ | |
| 9 small windows | 37.30±3.08 | |||
| 9 Large windows | 6.13±2.00 | |||
| 2 slots | 6.53±0.24 | 14.73±2.61 | ||
| Single 25um | 40+ | |||
| Single 100um | 25.13±4.45 | |||
| Single 500um | 9.90±0.36 | 13.37±1.25 | ||
| Single 1000um | 7.80±0.29 | |||
| Micropore Single 500um | 5.37±0.37 | 10.13±0.52 | ||
| Nanopore Single 500um | 5.33±1.39 |
窒化シリコンメンブレンTEMグリッド
SiN(Silicon Nitride) membrane TEM window grdis
窒化シリコンメンブレン:5, 10, 15, 20, 30 & 50 nm
5nm 窒化シリコンメンブレン
10nm 窒化シリコンメンブレン
15nm 窒化シリコンメンブレン
20nm 窒化シリコンメンブレン
30nm 窒化シリコンメンブレン
50nm 窒化シリコンメンブレン
膜無グリッド
窒化シリコンメンブレン:5, 10, 15, 20, 30 & 50 nm
5nm 窒化シリコンメンブレン
| 型番 | メンブレン厚 | ウィンドウ | ウィンドウ間隔 | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| SN100-A05Q00 | 5nm | 25 x 25um | n/a | 1 | 100um | 10/pk | ¥87,000 |
| SN100H-A05Q33A | 50 x 50um | 110um | 9 | 10/pk | ¥87,000 | ||
| SN100-A05L | 50 x 1500um | 280um | 2 | 10/pk | ¥87,000 |
10nm 窒化シリコンメンブレン
| 型番 | メンブレン厚 | ウィンドウ | ウィンドウ間隔 | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| SN100-A10Q33 | 10nm |
100 x 100um | 242um | 9 | 100um | 10/pk | ¥65,000 |
| SN100-A10Q33B | 250 x 250um | 242um | 9 | 10/pk | ¥65,000 | ||
| SN200-A10Q33X | 100 x 100um | 450um | 9 | 200um | 10/pk | ¥65,000 |
15nm 窒化シリコンメンブレン
| 型番 | メンブレン厚 | ウィンドウ | ウィンドウ間隔 | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| SN200-A15Q01 *グリッド外径 Φ3.6mm |
15nm | 100 x 100um | n/a | 1 | 200um | 10/pk | ¥65,000 |
| SN200-A15LX | 100 x 1500um | 450um | 2 | 10/pk | ¥68,000 | ||
| SN200-A15Q33X | 100 x 100um | 450um | 9 | 10/pk | ¥65,000 |
20nm 窒化シリコンメンブレン
| 型番 | メンブレン厚 | ウィンドウ | ウィンドウ間隔 | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| SN100-A20Q05 | 20nm | 500 x 500um | n/a | 1 | 100um | 10/pk | ¥56,000 |
| SN100H-A20Q33 | 100 x 100um | 242um | 9 | 10/pk | ¥56,000 | ||
| SN200-A20Q025 | 250 x 250um | n/a | 1 | 200um | 10/pk | ¥56,000 | |
| SN200-A20Q05 | 500 x 500um | n/a | 1 | 10/pk | ¥56,000 |
30nm 窒化シリコンメンブレン
| 型番 | メンブレン厚 | ウィンドウ | ウィンドウ間隔 | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| SN200-A30Q33 | 30nm | 100 x 100um | 450um | 9 | 200um | 10/pk | ¥56,000 |
50nm 窒化シリコンメンブレン
| 型番 | メンブレン厚 | ウィンドウ | ウィンドウ間隔 | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| SN100-A50Q01 | 50nm | 100 x 100um | n/a | 1 | 100um | 10/pk | ¥52,000 |
| SN100H-A50Q05 | 500 x 500um | n/a | 1 | 10/pk | ¥52,000 | ||
| SN100-A50Q10 | 1000 x 1000un | n/a | 1 | 10/pk | ¥52,000 | ||
| SN100H-A50Q33 | 100 x 100um | 242um | 9 | 10/pk | ¥52,000 | ||
| SN200-A50LX | 100 x 1500um | 450um | 2 | 200um | 10/pk | ¥55,000 | |
| SN200-A50Q33X | 100 x 100um | 450um | 9 | 10/pk | ¥55,000 |
膜無グリッド
| 型番 | メンブレン厚 | ウィンドウ | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| APT100-Q00 | 膜無 | 25 x 25um | 1 | 100um | 10/pk | ¥52,000 |
| APT100-Q01 | 100 x 100um | 1 | 10/pk | ¥52,000 | ||
| APT100-Q05 | 500 x 500um | 1 | 10/pk | ¥52,000 | ||
| APT200-Q01 | 膜無 | 100 x 100um | 1 | 200um | 10/pk | ¥52,000 |
| APT200-Q025 | 250 x 250um | 1 | 10/pk | ¥52,000 | ||
| APT200-Q05 | 500 x 500um | 1 | 10/pk | ¥52,000 | ||
| APT200-Q10 | 1000 x 1000um | 1 | 10/pk | ¥52,000 |
マイクロポーラス窒化シリコンメンブレンTEMグリッド
2, 2.8, 5, 10um Microporous SiN membrane TEM window grid
●2～10umポアが20, 30または200nm厚窒化シリコンメンブレンに形成
●さまざまなサンプルを浮遊状態にして観察 (例:グラフェン)
●高傾斜断層撮影(トモグラフィー)と同様にCryoEMで使用
●70度の角度では100umの薄くて斜角をつけられたシリコンフレームでウィンドウの
中心の中でどんな回転配向からも～50 x 50ミクロンの領域を使用できます
メンブレン: 窒化シリコン(アモルファス)
ポア径: 2, 2.8, 5, 10um
ポア間隔: 2umまたは10um(ポア中心-ポア中心間隔)
●2～10umポアが20, 30または200nm厚窒化シリコンメンブレンに形成
●さまざまなサンプルを浮遊状態にして観察 (例:グラフェン)
●高傾斜断層撮影(トモグラフィー)と同様にCryoEMで使用
●70度の角度では100umの薄くて斜角をつけられたシリコンフレームでウィンドウの
中心の中でどんな回転配向からも～50 x 50ミクロンの領域を使用できます
メンブレン: 窒化シリコン(アモルファス)
ポア径: 2, 2.8, 5, 10um
ポア間隔: 2umまたは10um(ポア中心-ポア中心間隔)
| 型番 | メンブレン厚 | ポア径 | ポア数 | ポア間隔 | ウィンドウ | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| SN100-A20MP2Q05 | 20nm | 2um | 6400 | 2um | 500 x 500um | 100um | 10/pk | ¥88,000 |
| SN100-A50MP2Q05 | 50nm | 2um | 6400 | 10/pk | ¥88,000 | |||
| SN200-A30MP-2.8 | 30nm | 2.8um | 2025 | 10um | 200um | 10/pk | ¥88,000 | |
| SN200-A50MP-2.0 | 50nm | 2um | 2025 | 10/pk | ¥88,000 | |||
| SN200-A50MP-10 | 50nm | 10um | 1024 | 10/pk | ¥88,000 | |||
| SN200-A200-MP-5.0 | 200nm | 5um | 2401 | 10/pk | ¥88,000 |
ナノポーラス窒化シリコンメンブレンTEMグリッド
Nanoporous SiN membrane TEM window grid
バックグラウンドフリー環境でのナノ粒子を浮遊状態にします。
ナノ多孔性SiNメンブレンは、平均ポア径30 nmにまたがる粒子の画像化を可能にします
メンブレン: ナノポーラス窒化シリコン(アモルファス)
●20nm Low- stress SiNメンブレン
●平均細孔径:30nm
●多孔率:約25%
バックグラウンドフリー環境でのナノ粒子を浮遊状態にします。
ナノ多孔性SiNメンブレンは、平均ポア径30 nmにまたがる粒子の画像化を可能にします
メンブレン: ナノポーラス窒化シリコン(アモルファス)
●20nm Low- stress SiNメンブレン
●平均細孔径:30nm
●多孔率:約25%
| 型番 | メンブレン厚 | ウィンドウ | ウィンドウ間隔 | ウィンドウ数 | フレーム厚 | 数量 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| SN100-P20Q33 | 20nm | 100 x 100um | 242um | 9 | 100um | 10/pk | 88,000 |
