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商品コード:
SMSN

SiN 窒化シリコンメンブレンTEMグリッド (マルチウィンドウ)

関連カテゴリ:
電子顕微鏡関連 > TEMグリッド(SiN, Si, SiOメンブレン)
窒化シリコンメンブレは化学的条件に耐え、イメージング
解像度と機械的強度の理想的なバランスを提供

窒化シリコンメンブレンTEMグリッドについて

特  徴
プラズマクリーニング:カーボングリッドと異なり、有機不純物を取り除き画質向上のために
プラズマクリーニング可能

均一性の向上:フィールド間のばらつきの低減
■ 耐熱温度> 1000℃:高温で動的プロセスが観察される環境TEMでの使用をサポート
過酷蒸着および化学的条件に耐える:イメージング解像度および機械的強度の理想的なバランスを提供
LPCVD、低ストレス(〜250MPa)、非化学量論的窒化シリコンを採用:平坦で絶縁性の疎水性表面を提供






アプリケーションガイド

  アモルファス
シリコン
多孔ナノ結晶
シリコン
窒化
シリコン
酸化
シリコン
標準
カーボン
薄膜
カーボン
メンブレン 5, 9, 15nm 30nm 5,10, 20, 50nm 20, 40, 100nm 20-50nm 5-10nm
イメージ*1 優れている 良い 有効 有効 有効 良い
プラズマ洗浄 不可 不可
物質解析
バックグラウンド
Si Si Si, N Si, O C, H C, H
熱安定性 ~600℃ ~600℃ ~1000℃ ~1000℃ ~400℃ ~400℃
化学安定性 強酸は避ける 強酸は避ける 優れている 有効 有効 有効
高ビーム電流*2 優れている 優れている 有効 有効 優れている 優れている
コンタミネーション
の可能性
カーボン カーボン
ナノスケールポア
マイクロスケールポア
有(ナノポア)
有(ナノ, マイクロポア)*3
バックグラウンド ナノ結晶
*1 気孔の上にサンプルがある場合、多孔性のSIグリッドは干渉するバックグラウンドなしのサンプルイメージを可能にします。
5nm非多孔/無孔シリコンメンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。
*2 ビーム下の安定性は電子によって打たれたフィルムの劣化の可能性により決定されます。5nm非多孔/無孔シリコン
メンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。純粋なSiは妨げになる結合形成が
ないため最も安定しています。SiO2 とSiNは電子の分子フィルム結合の妨げとフィルム劣化により崩壊されます。
*3 一部のSiN膜製品はナノおよびマイクロポアがあります。


メンブレン強度
1 atm(気圧) = 14.7 PSI
窒化シリコン膜厚 5 nm 10 nm 20nm 50 nm
9 windows   11.57±0.66 40+ 40+
9 small windows 37.30±3.08      
9 Large windows   6.13±2.00    
2 slots 6.53±0.24   14.73±2.61  
Single 25um 40+      
Single 100um       25.13±4.45
Single 500um     9.90±0.36 13.37±1.25
Single 1000um       7.80±0.29
Micropore Single 500um     5.37±0.37 10.13±0.52
Nanopore Single 500um     5.33±1.39  



 

窒化シリコンメンブレンTEMグリッド

SiN(Silicon Nitride) membrane TEM window grdis
窒化シリコン
メンブレン:5, 10, 20, 50 nm 









5nm 窒化シリコンメンブレン
型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
SN100-A05Q00 5nm 25 x 25um 1 100um 10/pk 59,000
SN100-A05Q33A 50 x 50um 9 10/pk 59,000
SN100-A05L 50 x 1500um 2 10/pk 59,000



10nm 窒化シリコンメンブレン
型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
SN100-A10Q33 10nm
 
100 x 100um 9 100um 10/pk 49,500
SN100-A10Q33B 250 x 250um 9 10/pk 49,500
SN200-A10Q33X 100 x 100um 9 200um 10/pk 49,500



15nm 窒化シリコンメンブレン
型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
SN200-A15Q01
*グリッド外径3.6mmΦ
15nm 100 x 100um 1 200um 10/pk 46,000
SN200-A15LX 100 x 1500um 2 10/pk 49,000
SN200-A15Q33X 100 x 100um 9 10/pk 49,000



20nm 窒化シリコンメンブレン
型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
SN100-A20Q05 20nm 500 x 500um 1 100um 10/pk 44,000
SN100-A20Q33 100 x 100um 9 10/pk 44,000
SN200-A20Q025 250 x 250um 1 200um 10/pk 45,000
SN200-A20Q05 500 x 500um 1 10/pk 45,000



30nm 窒化シリコンメンブレン
型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
SN200-A30Q33 30nm 100 x 100um 9 200um 10/pk 48,000



50nm 窒化シリコンメンブレン
型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
SN100-A50Q01 50nm 100 x 100um 1 100um 10/pk 33,000
SN100-A50Q05 500 x 500um 1 10/pk 33,000
SN100-A50Q10 1000 x 1000un 1 10/pk 33,000
SN100-A50Q33 100 x 100um 9 10/pk 33,000
SN200-A50LX 100 x 1500um 2 200um 10/pk 38,000
SN200-A50Q33X 100 x 100um 9 10/pk 38,000




膜無グリッド
型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
APT100-Q00 膜無 25 x 25um 1 100um 10/pk 33,000
APT100-Q01 100 x 100um 1 10/pk 33,000
APT100-Q05 500 x 500um 1 10/pk 33,000
APT100-Q10 1000 x 1000um 1 10/pk 33,000
APT200-Q01 膜無 100 x 100um 1 200um 10/pk 38,000
APT200-Q025 250 x 250um 1 10/pk 38,000
APT200-Q05 500 x 500um 1 10/pk 38,000
APT200-Q10 1000 x 1000um 1 10/pk 38,000



 

マイクロポーラス窒化シリコンメンブレンTEMグリッド

2, 2.8, 5, 10um Microporous SiN membrane TEM window grid


●2~10um
ポアが20, 30または200nm厚窒化シリコンメンブレンに形成
さまざまなサンプルを浮遊状態にして観察 (例:グラフェン)
高傾斜断層撮影(トモグラフィー)と同様にCryoEM使用
●70度の角度では100umの薄くて斜角をつけられたシリコンフレームでウィンドウの
 中心の中でどんな回転配向からも~
50 50ミクロンの領域を使用できます

メンブレン: 窒化シリコン(アモルファス)
ポア径: 2, 2.8, 5, 10um
ポア間隔: 2umまたは10um(ポア中心-ポア中心間隔)
型番 メンブレン厚 ポア径 ポア数 ポア間隔 ウィンドウ フレーム厚 数量 価格
SN100-A20MP2Q05 20nm 2um 6400 2um 500 x 500um 100um 10/pk 59,000
SN100-A50MP2Q05 50nm 2um 6400 10/pk 59,000
SN200-A30MP-2.8 30nm 2.8um 2025 10um 200um 10/pk 65,000
SN200-A50MP-2.0 50nm 2um 2025 10/pk 65,000
SN200-A50MP-10 50nm 10um 1024 10/pk 65,000
SN200-A200-MP-5.0 200nm 5um 2401 10/pk 65,000



 

ナノポーラス窒化シリコンメンブレンTEMグリッド

Nanoporous SiN membrane TEM window grid

バックグラウンドフリー環境でのナノ粒子を浮遊状態にします。  
ナノ多孔性SiNメンブレンは、平均ポア径30 nmにまたがる粒子の画像化を可能にします

メンブレン: ナノポーラス窒化シリコン(アモルファス) 
●20nm Low- stress SiNメンブレン 
●平均細孔径:30nm

●多孔率:約25%

 
型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 フレーム厚 数量 価格
SN100-P20Q05 20nm 500 x 500um 1 100um 10/pk 59,000



 

窒化シリコンメンブレンTEMスロットグリッド

SiN(Silicon Nitride) membrane TEM Slot grid

メージング中の振動の発生を低減
低振動は、断層撮影および高傾斜用途に特に重要です

スロットサイズ: 50um x 1000um x 2スロット

 
型番 メンブレン厚 スロット スロット数 フレーム厚 数量 価格
SN100-A05L 5nm 50 x 1000um 2 100um 10/pk 59,000
SN200-A15LX 15nm 100 x 1500um 200um
 
10/pk 49,000
SN200-A50LX 50nm 10/pk 38,000



 
SiN 窒化シリコンメンブレンTEMグリッド (マルチウィンドウ)

ナノ&マイクロポーラス窒化シリコンメンブレングリッド(5.4 x 5.4 mm)

Nano & Microporous SiN membrane window grid

バックグラウンドフリー環境でのナノ粒子を浮遊状態にします
多孔性SiNメンブレンは、平均ポア径50 nm~3.0umにまたがる粒子の画像化を可能にします

メンブレン: ポーラス窒化シリコン(アモルファス) 
●フレームサイズ: 5.4 x 5.4mm(外径)
●フレーム厚: 310um 

●100nm, 400nm Low- Stress SiNメンブレン 
●平均細孔径: ~50nm, 0.5um, 3.0um

●多孔率: ~15%(~50nmポア), 20%(0.5, 3.0umポア)
 
型番 メンブレン厚 ウィンドウ ウィンドウ数 ポア径 ポア率 数量 価格
NPSN100-4L 100nm 0.3 x 3mm 4 ~50nm ~15% 10/pk 60,000
MPSN400-3L-0.5HP 400nm 0.7 x 3mm 3 0.5um 20% 10/pk 60,000
MPSN400-3L-3.0HP 400nm 0.7 x 3mm 3 3.0um 20% 10/pk 60,000