Muscovite MICA-マイカ(雲母)基板
The highest quality for thin film deposition, replication, and AFM studies


薄膜蒸着、レプリカ法、AFM/SPM研究のための最高品質MICA基板

米国SPI社の高品質MICA(マイカ)はASTMスタンダード D351の分類体系に従い明確なグレードを公開しています。
カーボンサポートフィルム作製、薄膜コーティング研究、AFM / SPMキャリブレーション、分散微小コロイド粒子法や、
Pt/Cシャドウイング法の基板として使用されています。

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マイカ シート & ディスク基板

V-1 グレード：最高品質-キャリブレーショングレード
原子間力電子顕微鏡(AFM), 走査型プローブ顕微鏡(SPM)キャリブレーションに優れています。（空気含有量0%)
*SPMをキャリブレートする手段に関してV-1グレードが最適です。

V-4 グレード：高品質-リサーチグレード
カーボンサポートフィルムの作製、薄膜コーティング研究、AFMキャリブレーション全般に適してします。（空気含有量25%)

V-5 グレード：高品質-テクニカルグレード
カーボンサポートフィルムの作製、薄膜コーティング研究ではV-5グレードで十分対応できます。

誘電特性
一般にMICA(グレードV-1からV-4)の誘電強度は大体1 mil (25.4μｍ)当たり1万ボルトです。

V-1グレード：最高品質-キャリブレーショングレード（AMF, SPM)
■正方形/長方形
型　番	サイズ	厚さ	数量
01872-AB	25 x 25 mm	0.15mm	1
01872-CA	25 x 25 mm		20
01872-MB	25 x 25 mm		100
01868-CA	15 x 15 mm		20
01868-MB	15 x 15 mm		100
01792-AB	50 x 25 mm		1
01792-CA	50 x 25 mm		20
01792-MB	50 x 25 mm		100
●ディスク
型　番	サイズ	厚さ	数量
01900-MB	3.05mm 径 TEMグリッドホルダーに　 適応	0.05mm	100
01900-CA	3.05mm径		20
01873-MB	9.5mm 径	0.15mm	100
01873-CA	9.5mm 径		20
01877-MB	12mm 径		100
01878-MB	15mm 径		100
01920-MB	22mm 径		100
01925-MB	12mm 径	0.275 - 0.325mm.	100
01926-MB	25mm 径		100

V-4グレード：高品質-リサーチグレード
■正方形/長方形
型　番	サイズ	厚さ	数量
01869-CA	15 x 15 mm	0.15mm	20
01869-MB	15 x 15 mm		100
01870-CA	25 x 25 mm	0.26mm	20
01870-MB	25 x 25 mm		100
01876-CA	50 x 25 mm	0.15mm	20
01876-MB	50 x 25 mm		100
01875-CA	75 x 25 mm	0.26mm	20
01875-MB	75 x 25 mm		100
01819-CF	80 x 40 mm	0.26mm	25
●ディスク
型　番	サイズ	厚さ	数量
01923-MB	3.05mm 径 TEMグリッドホルダーに　 適応	0.05mm	100
01923-CA	3.05mm径		20
01874-MB	9.5mm 径	0.15mm	100
01874-CA	9.5mm 径		20
01879-MB	12mm 径		100
01880-MB	15mm 径		100
01921-MB	22mm 径		100

V-5グレード：高品質-テクニカルグレード
■正方形/長方形
型　番	サイズ	厚さ	数量
01804-CA	75 x 50 mm	0.15mm	20
01805-CA	75 x 25 mm		20
01805-MB	75 x 25 mm		100
01806-MB	40 x 10 mm		100
01806A-BA	40 x 10 mm	0.30mm	10
01806A-MB	40 x 10 mm		100
●ディスク
型　番	サイズ	厚さ	数量
01871-CA	9.9mm 径	0.26mm	20
01871-MB	9.9mm 径		100

細胞を付着させるために基板を“粘着性”にする手法がたくさんあるようです。
鍵となる含有物は3-アミノプロピルトリエトキシシラン（3APTS)です。

１．  コーティングするスライド（あるいは基板）をアセトン溶媒の2％3APTS溶液に１分間浸してください。
　　　基板はできるだけきれいにしなければなりません。そのためにはエタノール溶媒の20％塩酸に浸してください。
　　　　20％の硫酸水溶液も代わりになります。要点はこの時点で表面を親水性にすることです。

必要な度合いまで表面をきれいにする保険として、無水アセトンに2時間浸してください。
24〜36時間モレキュラーシーブのあるところに保存すると“無水”化されます。

２．   無水アセトン溶媒の2％3APTS溶液を用意してください（上記参照）
　　　ガラスかポリプロピレンの適切な容器に基板を置いてください。
　　　その容器に2％3APTS溶液を完全に満たして、50℃で24時間、あるいは4％で12時間、保存してください。

３．   スライドを水に1分間浸した後、3APTSを取り除くために100％アセトンに1分間浸してください。

４．   スライドを水に1分間浸します。

５．　　攪拌せずに、ステップ３と４を繰り返してください。

６．    塵のない環境で空気乾燥してください。

この時点でコーティングされた基板は触ると“粘着性”があり、使用可能となります。
もしステップ４で蒸留水に浸した場合、5日間保存できます。

細胞を付着させる典型的な手順：
基板を無水アセトンですすぎ、1％のEMグレードのグルタルアルデヒドに1時間浸します。
次に4℃の蒸留水に入れます。その表面がアルデヒド基でコーティングされ、細胞（あるいは
細胞の一部）の表面のアミノ基と共有結合します。

（グルタルアルデヒドに）付着する前に、細胞（あるいは細胞の一部）が固定されなければならない場合、
その1％のグルタルアルデヒドは省略されます。

生物学的な物質が固定された上であらわになったアルデヒド基は基板上のアミノ基と結合します。

上記の情報は、基板を準備する最適な方法の様々観点を持つ研究者から得られた情報を組み合わせて
得られたものです。弊社では下記の参考文献を参照することを強く推奨します。

参考文献:
1.   Angerer, L.M. and Angerer, R.C. Localization of mRNAs by in situ hybridization. Functional Organization of the
　　　Nucleus: a Laboratory Guide. Methods in Cell Biology, Vol 35, (Edited by B.A. Hamalko and S.C.R. Elgin),
　　　pp. 37 - 71(1991).

2.    J. P. Robinson, P.Dunnill, and M. D. Lilly, Biochim. Biophys. Acta 242, 659-661, (1971)

3.     M. Buechi and T. Baechi, J.Cell Biol. 83, 338-347, 1979.

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Au(111) on MICA - 分子イメージング　ピコ基板(PicoSubstrates)　

“金(111)基板”として知られている３つのサイズ、エクストララージ、ラージ、スモールを
提供しています。すべての基板は新しく劈開したマイカ基板上に金(111)を蒸着しています。
原子レベルの平面度は大体300 nmで、この値は水素フレームアニーリング後増加します。

基板の厚さ：
マイカの厚さは0.004” (100μm)から0.006” (150μm)で始まり、
およそ半分に劈開され、50μmから75μmの厚さの2枚にされます。

　　
　　

水素フレームアニーリング
金(111)基板は高真空中においてグリーンマイカ（緑色雲母）上でエピタキシャル成長した高純度の金です。
成長によってできた金の面の厚さは150 nmで、平坦な金(111)で構成されたその面積は280,000 nm²です。
水素フレームアニーリングによって汚染のない再構成された金(111)面になります。

　　　　　　

型 番	サイズ	数 量
467PS-AB	Extra Large 2.4 cm x 2.1 cm with 150 nm 金蒸着エリア: 2.0 x 2.1 cm	5枚/pk
465PS-AB	Large 2.4 cm x 1.6 cm with 150 nm 金蒸着エリア: 2.0 x 1.6 cm	5枚/pk
466PS-AB	Small 1.4 cm x 1.1 cm with 150 nm 金蒸着エリア: 1.0 x 1.1 cm	5枚/pk

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