UltraSM Silicon Membrane TEM window | シリコンメンブレンTEMグリッド

UltraSMシリコンメンブレンとTEMウィンドウグリッドの特徴・利点のユニークな組み合わせを提供します

特　徴
ナノメートルという薄さ：　UltraSM　TEMウィンドウの特徴は厚さ5から15 nmのイメージングウィンドウということで、明らかに窒化シリコングリッドより薄く、バックグランドの寄与やより高いコントラスト画像における干渉を減らします。
プラズマクリーニングが可能：伝統的なカーボングリッドと異なり、UltraSM TEM ウィンドウで準備された試料は有機不純物を取り除き画質向上のために強度のプラズマクリーニングができます。
色にじみが減少：商用で最も薄いアモルファスカーボンメンブレンと比較すると、5 nm 非穴開きUltraSM シリコンTEMウィンドウの色にじみは半分です。この劇的な違いはUltraSM シリコンTEMウィンドウの最も薄いメンブレンを通過する非弾性散乱した電子が半分に減少したことから生じています。その結果、色にじみが減少したことから画質が2倍改善することが可能となります。
均一性：Non-porous(非穴開き)UltraSM TEMウィンドウはカーボングリッドより一貫して薄く、視野による変動が減少しています。（注：穴開きUltra SMウィンドウに固有の結晶構造がありますが、バックグランドのないナノメートルスケールのきれいな微細孔があります）。
シリコン成分：UltraSM TEMウィンドウのシリコン元素成分によってビーム電流が強いときやアニーリング温度が高いときの安定性が著しく増加しています。純シリコン成分によってバックグランド信号を最小化し、EDXやEELSによる窒素やカーボンを含んだ試料の元素分析ができます。
孤立した多結晶：Porous(穴開き)UltraSM TEMウィンドウの多結晶性によってX線回折研究の標準校正が可能となります。孤立した結晶特性、すなわちシリコンの結晶格子がよく特徴付けられているため、高分解能距離計測において、便利で信頼性の高い距離計測を行うことができます。
親水性：非穴開き、穴開きのどちらのUltraSM　TEMウィンドウの親水性は、プラズマあるいはUVオゾントリートメントによって調整できます。特に水溶性試料の場合、試料準備を容易にします。

Pure Silicon Membrane
15nm porous UltraSM TEM Window上の多層カーボンナノチューブ画像提供 Brain Mclntyer, University of Rochester		Porous Silicon UltraSM^® TEM Windows 微細孔シリコンメンブレン - 10～50nmの微細孔 - バックグランドのないイメージ - プラズマ洗浄可能
5nm non-porous UltraSM TEM Window上の金ナノ粒子画像提供 Brain Mclntyer, University of Rochester上の金ナノ粒子		Non-Porous Silicon UltraSM^® TEM Windows シリコンメンブレン - 5, 9, 15nm厚アモルファスシリコン - 高解像度、高分可能イメージ - プラズマ洗浄可能

High Quality other TEM Windows
		Silicon Oxide TEM Windows - 頑丈な20, 40nmu厚メンブレン Silicon Nitride TEM Windows - 低ストレス 5, 10, 20, 50nm厚メンブレンスクウェアタイプ 25 x 25 um x 1 window 50 x 50 um x 9 windows 100 x 100 um x 1 window 100 x 100 um x 9 windows 250 x 250 um x 9 windows 500 x 500 um x 1 window 1000 x 1000 um x 1 window スロットタイプ 100 x 1500 um x 2 slots
Custom TEM Windows
		Custom TEM Windows - Si, SiO, SiN特注メンブレンに対応 -多様なWindow配列に対応 - 多様なフレームサイズと形状に対応

アプリケーションガイド

	Amorphous Silicon	Porous Nanocrystalline Silicon	Silicon Oxide	Silicon Nitride	Standard Carbon	Ultrathin Carbon
	アモルファス（非結晶) シリコン膜	多孔ナノ結晶性シリコン膜	二酸化シリコン膜	窒化シリコン膜	標準カーボン膜	極薄カーボン膜
メンブレン厚	5, 9, 15nm	15, 30nm	20, 40nm	5, 10, 20, 50nm	20-50nm	5nm-10nm
画　質*¹	優れている	良い	有効	有効	有効	良い
プラズマ洗浄	可	可	可	可	不可	不可
物質解析バックグランド	Siのみ	Siのみ	Si, O	Si, N	C, H	C, H
熱的安定性	~600℃	~1000℃	~1000℃	~1000℃	~400℃	~400℃
化学安定性	強塩は避ける	強塩は避ける	有効	優れている	有効	有効
高ビーム電流*²	優れている	優れている	有効	有効	優れている	優れている
コンタミネーションの可能性	なし	なし	なし	なし	カーボン	カーボン
ナノスケール気孔	なし	あり	なし	なし	なし	なし
バックグランド	なし	ナノ結晶	なし	なし	なし	なし

*¹ 気孔の上にサンプルがある場合、多孔性のSIグリッドは干渉するバックグラウンドなしのサンプルイメージを可能にします。
5nm非多孔/無孔シリコンメンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。
*² ビーム下の安定性は電子によって打たれたフィルムの劣化の可能性により決定されます。5nm非多孔/無孔シリコン
メンブレングリッドは超薄カーボンコートグリッドより2倍以上色にじみが減少します。純粋なSiは妨げになる結合形成が
ないため最も安定しています。SiO2 とSiNは電子の分子フィルム結合の妨げとフィルム劣化により崩壊されます。

100um厚フレーム
	100umの薄いフレームによってダブルチルト試料ホルダーで高角度画像を得ることができますウィンドウグリッドは高分解能画像用に対応してます

製品案内

シリコンメンブレンTEMグリッド

	Non-Porous Silicon UltraSM^® TEM Windows
	シリコンメンブレンTEMグリッドフレーム厚：100/200um, メンブレンタイプ：アモルファスシリコン

型　番	メンブレン厚	ウインドウサイズ	ウインドウ数	フレーム厚	グリッド径	数量	価格
*New*US100-A05Q00	5nm	25 x 25um	1	100um	3mm	10枚	50,000
NewUS100-A05Q33A	5nm	50 x 50um	9	100um	3mm	10枚	50,000
NewUS100-A05Q33	5nm	100 x 100um	9	100um	3mm	10枚	50,000
US100-A09Q33	9nm	100 x 100um	9	100um	3mm	10枚	45,000
US100-A15Q33	15nm	100 x 100um	9	100um	3mm	10枚	40,000
US200-A05Q33	5nm	100 x 100um	9	200um	3mm	10枚	50,000
US200-A09Q33	9nm	100 x 100um	9	200um	3mm	10枚	45,000
US200-A15Q33	15nm	100 x 100um	9	200um	3mm	10枚	40,000

	Non-Porous Silicon UltraSM^® TEM Slot Windows
	シリコンメンブレンスロットTEMグリッドフレーム厚：100/200um, メンブレンタイプ：アモルファスシリコン

型　番	メンブレン厚	スロットサイズ	スロット数	フレーム厚	グリッド径	数量	価格
US100-A05L	15nm	100 x 1500um	2	100um	3mm	10枚	50,000
US100-A09L	9nm	100 x 1500um	2	100um	3mm	10枚	45,000
US100-A15L	15nm	100 x 1500um	2	100um	3mm	10枚	40,000
US200-A05L	5nm	100 x 1500um	2	200um	3mm	10枚	50,000
US200-A09L	9nm	100 x 1500um	2	200um	3mm	10枚	45,000
US200-A15L	15nm	100 x 1500um	2	200um	3mm	10枚	40,000

	Porous Silicon UltraSM^® TEM Windows
	微細孔シリコンメンブレンTEMグリッドフレーム厚：200um, メンブレンタイプ：多孔ナノ結晶シリコン最大ポアサイズ：~ 50nm　/ 多孔率：~5%

型　番	メンブレン厚	ウインドウサイズ	ウインドウ数	フレーム厚	グリッド径	数量	価格
US200-P15Q	15nm	100 x 100um	9	200um	3mm	10枚	45,000

	Porous Silicon UltraSM^® TEM Windows
	New 微細孔シリコンメンブレンTEMグリッドフレーム厚：100um, メンブレンタイプ：多孔ナノ結晶シリコン最大ポアサイズ：10 ~ 60nm　/ 多孔率：5 ~ 15%

型　番	メンブレン厚	ウインドウサイズ	ウインドウ数	フレーム厚	グリッド径	数量	価格
NewUS100-P30Q05	30nm	500 x 500um	1	100um	3mm	10枚	45,000
NewUS100-P30Q33	30nm	100 x 100um	9	100um	3mm	10枚	45,000

窒化シリコンメンブレンTEMグリッド

	Silicon Nitride Membrane TEM Windows
	窒化シリコンメンブレンTEMグリッドフレーム厚：100/200um, メンブレンタイプ：窒化シリコン

型　番	メンブレン厚	ウインドウサイズ	ウインドウ数	フレーム厚	グリッド径	数量	価格
NEW SN100-A05Q00	5nm	25 x 25um	1	100um	3mm	10枚	56,000
*NEW* SN100-A05Q33A	5nm	50 x 50um	9	100um	3mm	10枚	56,000
*NEW* SN100-A05Q33	5nm	100 x 100um	9	100um	3mm	10枚	56,000
SN100-A10Q33	10nm	100 x 100um	9	100um	3mm	10枚	45,000
SN100-A10Q33B	10nm	250 x 250um	9	100um	3mm	10枚	45,000
SN100-A20Q05	20nm	500 x 500um	1	100um	3mm	10枚	40,000
SN100-A20Q33	20nm	100 x 100um	9	100um	3mm	10枚	40,000
SN200-A20Q05	20nm	500 x 500um	1	200um	3mm	10枚	40,000
SN200-A20Q33	20nm	100 x 100um	9	200um	3mm	10枚	40,000

SN100-A50Q10	50nm	1000 x 1000um	1	100um	3mm	10枚	30,000
SN100-A50Q05	50nm	500 x 500um	1	100um	3mm	10枚	30,000
SN100-A50Q01	50nm	100 x 100um	1	100um	3mm	10枚	30,000
SN100-A50Q33	50nm	100 x 100um	9	100um	3mm	10枚	30,000
SN200-A50Q10	50nm	1000 x 1000um	1	200um	3mm	10枚	30,000
SN200-A50Q05	50nm	500 x 500um	1	200um	3mm	10枚	30,000
SN200-A50Q01	50nm	100 x 100um	1	200um	3mm	10枚	30,000
SN200-A50Q33	50nm	100 x 100um	9	200um	3mm	10枚	30,000

Silicon Nitride membrane TEM Slot Windows

窒化シリコンメンブレンスロットTEMグリッド

フレーム厚：200/100um, メンブレンタイプ：窒化シリコン

型　番	メンブレン厚	スロットサイズ	スロット数	フレーム厚	グリッド径	数量	価格
SN200-A50L	50nm	100 x 1500um	2	200um	3mm	10枚	30,000
SN200-A20L	20nm	100 x 1500um	2	200um	3mm	10枚	40,000
SN100-A20L	20nm	100 x 1500um	2	100um	3mm	10枚	40,000

	Microporous Silicon Nitride membrane TEM Window
	NEW 微細孔窒化シリコンメンブレンTEMグリッドフレーム厚：100um, メンブレンタイプ：微細孔窒化シリコン


●2um気孔が50nm厚窒化シリコンメンブレンに形成(2.0umポア- 1:1ピッチ) ●さまざまな薄いフィルムを浮遊するのに微細孔メンブレングリッドを使用できます例：グラフェン） ●高傾斜断層撮影（トモグラフィー）と同様にCryoEMで使用可能 ●70度の角度では、100クロンの薄くて斜角を付けられたシリコンフレームでウィンドウの中心の中でどんな回転配向からも～50×50ミクロンの領域を使用できます

型　番	メンブレン厚	ウィンドウサイズ	ウィンドウ数	フレーム厚	グリッド径	数量	価格
NEW SN100-MP2Q05	50nm	500 x 500um	1	100um	3mm	10枚	56,000

酸化シリコンメンブレンTEMグリッド

	Silicon Oxide Membrane TEM Windows
	酸化シリコンメンブレンTEMグリッドフレーム厚：200um, メンブレンタイプ：酸化シリコン

型　番	メンブレン厚	ウインドウサイズ	ウインドウ数	フレーム厚	グリッド径	数量	価格
SO100-A40Q33	40nm	100 x 100um	9	100um	3mm	10枚	35,000
SO100-A20Q33	20nm	100 x 100um	9	100um	3mm	10枚	45,000
SO200-A40Q33	40nm	100 x 100um	9	200um	3mm	10枚	35,000
SO200-A20Q33	20nm	100 x 100um	9	200um	3mm	10枚	45,000

	Silicon Oxide Membrane TEM Slot Windows
	酸化シリコンメンブレンTEMグリッドフレーム厚：200um, メンブレンタイプ：酸化シリコン

型　番	メンブレン厚	スロットサイズ	スロット数	フレーム厚	グリッド径	数量	価格
SO200-A40L	40nm	100 x 1500um	2	100um	3mm	10枚	35,000
SO200-A20L	20nm	100 x 1500um	2	100um	3mm	10枚	45,000

UltraSM^® is a registered trademark of Simpore, Inc.

TEM Window grid アプリケーション

Nano Gold on 5nm menmbrane TEM grid		Quantum Dots on 5nm membran TEM grid		CeO2 Nanoparticles
	----------		----------
10 nm gold nanoparticle on a pure silicon5 nm thick UltraSN TEM window.		Commercial Quantum dots on a pure 5 nm thick UltraSN TEM window.		CeO2 nanoparticles are suspended on amorphous 5nm UltraSM pure silicon TEM windows. The grid was plasma cleaned in O2/Argon prior to imaging.

MWCNT on Nanoporous membrane grid		5nm Nanoporous Silicon vs. Carbon film grid

A multiwalled crabon nanotube (MWCNT) suspended on a nanoporous 15nm UltraSM TEM Window.		Lead Selenid nanoparticles on 5nm non-porous UltraSM TEM Window (Left) and conventional carbon film (right)..

Human Neutrophil Activation - TEM		Human Neutrophil Activation - SEM
	-----------
Since SEM image preparation using Pure Silicon TEM Windows did not require gold sputtering , it was straight forward to image the same samples in the TEM. These are higher resolution images of the development of the cell’s leading edge or lamellipodium. Since the pure silicon window was just 15 nm thick, it was not necessary to stain the cells with an electron dense material. Additionally, the optical transparency of these silicon films enables straight forward fluorescence imaging on an optical microscope.		Pure silicon TEM windows are also excellent substrates for scanning electron microscopy (SEM). Due to the conductivity of the pure silicon film, there is better charge dissipation than with oxide or nitride films eliminating the need for gold sputtering. Both of these images required no sample prep beyond drying.Human neutrophils were placed on IL-8 coated pure silicon TEM window grids (15 nm thick) and allowed to activate. Cells were fixed with glutaraldehyde, then dried with increasing concentrations of ethanol.
- -

Atmospheric Pressure STEM

Nano Letters (N. de Jonge, W. C. Bigelow, and G. M. Veith, Nano Lett., Articles ASAP, Feb. 10, 2010) illustrates how relatively simple laboratory materials can be used for significant in situ STEM (scanning transmission electron microscope) experiments. In this paper, the authors demonstrate the imaging of Au nanoparticles on a thin TiO2 surface in a 0.36 mm thick atmospheric pressure flow cell with a resolution of ~0.4 nm. The flow cell was constructed with two SiN grids with custom geometry, separated with simple tubing spacers and sealed with vacuum epoxy. Thin input and output tubing was fed through the specimen rod to the exterior of the STEM for source gas connections. High resolution imaging through the atmospheric pressure chamber was achieved by focusing the STEM on nano particles on the entrance window (relative to the electron beam), and imaging elastically scattered electrons with an ADF (annular dark-field) detector.

Home
製品情報
電子顕微鏡関連
TEMグリッドカーボンフィルムTEMグリッド New表面機能化カーボン　フィルムTEMグリッド Newシリコン/窒化シリコン　メンブレンTEMグリッド　 (Si, SiN, SiO) 窒化シリコンメンブレン ---TEMグリッド（SiN) New官能基化-窒化シリコン __メンブレンTEMグリッド(SiN) New官能基化-酸化シリコン　メンブレンTEMグリッド(SiO) Quantifoli -ホーリーカーボン　 TEMグリッド Cryo-TEM用グリッド Newグラフェン薄膜グリッド AFM, SPM基板 HOPG MICA その他電顕関連製品