電子断層撮影
長さ2.0 mmのウィンドウは高傾斜角電子断層撮影を行うのに理想的な幾何配置です。
長いスロットを作ることはより短い（たとえば1.5 mm）スロットを作ることより困難です。
しかし、2.0 mmという長いスロットがいかに有用であるか教えてくれるでしょう。

スピンコーティングや真空蒸着のようなメンブレンウィンドウを処理する研究者にとって、
マルチフレームアレイ（MFA）で同時に大量のメンブレンを均一に処理できて便利です。


このフレームの外形はすべてのメンブレンで同じであり、
弊社の標準的な厚さの200μmシリコンウェハーを使うと、
23.5 x 23.5 mmです。

形　　状
“角を取った”一辺2.65 mmの正方形フレームを製作しています。そのため、対角は3.05 mmになります。
一辺2.65mmのアレイグリッドは標準的な3.05 mmのTEMグリッドホルダーにうまく据え付けることができます。
たとえば、もし、フレームの外側のサイズが 3 x 3mmを必要な場合、これは6x6アレイに相当します
実際のアレイの寸法は18x18 mmになります。しかし、その外側の“リム”が付け加えられ、外側の
フレームの全寸法は23.5x23.5 mmになります。

スピンコーティング
MFAを“チャック”に固定するために真空を使わないよう注意してください。真空はメンブレンを外側に
たわませ、そのため破砕抵抗を小さくします。この変形のためコーティングが平坦でなくなります。
特別な“チャック”を開発した研究者がいます。真空よりもむしろクリップを使用しています。

アレイの分割
アレイには切り取り用の溝が引かれています。ピンセットでその溝の終端を押し下げれば、
その溝でウェハーが曲がるように見え始めます。もう少し圧力をかけると、それは割れ始めます。
このとき、アレイをひっくり返し、裏側からも同じことをします。一旦、ひとつエッジが取れたら、
他のエッジを順に取っていき、それぞれのフレームの列を割ります。

Silicon Nitride Membrane Window Grids
窒化シリコンメンブレンウィンドグリッド"Wet Cell Kit"



ウェットセルキット
窒化シリコンメンブレンウィンドウグリッドは、ユニークな環境のチャンバー、言い換えると、
“ウェットセル”というこれまで不可能だった分解能で細胞や他のウェット試料のBSE画像
化(後方散乱電子像)を可能とするものを作るために使われています。

通常のタングステンソースを用いたSEMを使って画像化されたメン
ブレンに付着した細胞。細胞の周囲に細胞突起が明確に観測されます。
顕微鏡写真の1辺は30μm



水性の環境における窒化シリコンメンブレンでの細胞増殖。
核と細胞過程：顕微鏡写真の1辺は100 μmです

通常のSEMを使って画像化されたメンブレンに付着した細胞